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        Tanner EDA

        更新日期:2018-01-02 10:07:24  瀏覽次數:5498次  作者:admin  【打印此頁】  【關閉

               Tanner是Mentor Graphics公司面向數模混合電路、模擬電路和MEMS設計等研發的集成電路設計工具。其早在1988年就已經面世,至今已有28年歷史。Tanner工具功能強大,從電路設計、版圖設計到仿真驗證一應俱全;且易學易用,目前在國內外有很高的知名度,當前用戶約有4000多個,分布在全球64個國家,如圖1所示。奧



        成功案例



        圖1   Tanner成功案例


        數模混合設計流程

        圖2 Tanner數模混合設計流程圖




        Tanner數模混合設計流程是針對模擬/數模混合芯片全定制設計的流程,如圖2所示。該流程高度集成了IC設計從前端到后端的工具模塊,詳見表1,具體包括電路設計(S-edit,混合信號仿真(T-spice等),波形編輯(W-edit),版圖設計(L-edit)以及與目前業界Foundry廠兼容的物理驗證(LVS DRC)等。肯

        Tanner可與當前流行的設計工具與相應的網表格式相互兼容,降低了因支持不同的Foundry導致的風險,包含多Foundry認證的PDK。該工具直觀性強,使用方便并有自己獨立的運行平臺。同時,Tanner支持WindowsLinux雙重操作環境。思


        特點及優勢

        完整的模擬/數模混合IC全定制設計組件

        OpenAccessLEF/DEFLibertySDF數據格式支持

        支持多重抽象級網表仿真:行為級、模塊級、門級

        調試和驗證支持System Verilog, Verilog, Verilog-AMS, Verilog-AVHDL等語言

        提供內建的庫導航器,有效跨越自頂向下和自底向上的層次化設計查看單元視圖

        自頂向下的混合信號仿真

        已驗證的,與綜合兼容的DFT支持

        高速時序分析

         全角度版圖編輯

         實時DRC檢查,DRCLVS驗證與Calibre工具兼容

        使用SDL加速版圖設計,可進行自動布局布線,支持HSPICE, PSPICE, VerilogCDL等格式數據導入

        支持參數化cell,稱為T-cell,可用于可編程接口操作(UPI),創建自動化宏

        HiPer DevGen可實現參數化器件生成版圖

        支持多Foundry工藝

        提供多語言菜單(英語,日語,簡體、繁體中文,德語,意大利語和俄語等)


                                                          1  Tanner 數模混合流程功能模塊

        Tanner AMS IC Design Flow

        電路圖設計

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        模擬版圖加速

        ?

        波形編輯器

        ?

        DRCLVS

        ?

        Spice仿真

        ?

        2D參數提取

        ?

        行為級模型

        ?

        3D參數提取

        ?

        混合信號分析

        ?

        Calibre接口

        ?

        數字RTL仿真

        ?

        標準單元布局布線

        ?

        版圖編輯器

        ?

        綜合

        ?

        交互式或實時DRC檢查

        ?

        靜態時序分析

        ?

        節點高亮

        ?

        DFT

        ?

        Pad相關參數提取

        ?

        自動測試激勵產生

        ?

        電路驅動版圖(SDL

        ?

        芯片級繞線

        ?


        MEMS設計流程

        在當前MEMS設計領域,工具集成度比以往增加了很多。為了應對市場競爭,用戶需要一個已經成功證明能夠加速商業項目設計周期的工具集。Tanner MEMS流程不只把MEMS器件與相應模擬/數模混合電路設計的集成變得簡單,同時也能夠幫助用戶改善MEMS器件的設計。因此,它能夠減少培訓時間,縮短設計周期。




        圖3  Tanner L-edit組件



        Tanner MEMS設計流程的核心是L-edit,如圖3所示。L-edit是一款MEMS版圖編輯工具,可以進行曲線多邊形和全角運算操作。相比于工程師使用的其他CAD工具,L-edit的版圖規劃更加清晰。用戶可以快速的畫出所需的圖形,并方便地檢查多層版圖組合之間的重疊和相互關聯。利用L-edit例如強大的曲線編輯、實時DRC檢查、布爾運算、對象捕捉與對準等方面的優勢,用戶可以更有效的完成設計任務,并節約時間與成本。與此同時,在任意形狀與曲率的多邊形復雜運算和派生層生成操作上,L-edit的精度也可以做的非常高。這些操作包含ANDORXORSubtractGrow Shrink等。它們允許用戶根據簡單的形狀產生復雜的MEMS特殊結構。


        特點及優勢

        同一環境下完整的ICMEMS設計解決方案

        25年的MEMS設計經驗

        從版圖生成3D MEMS模型

        支持導入和導出GDSOASISDXFGerber CIF 文件格式

        L-Edit提供可視化連接的節點高亮,可以快速查找和定位DRCLVS問題

        高度可編程的MEMS版圖設計工具,如曲線多邊形、多角操作等

        參數化派生層產生工具,可實現特殊MEMS結構設計

        完整可視化的多圖層幾何圖形設計

         利用工具欄便捷地生成、擺放和對準圖形,執行任意角度旋轉、翻轉、合并、咬和切片操作,指定一個參考點進行編輯操作,如對象旋轉、翻轉、移動,或使用基點位置進行實例放置等

        針對MEMS工藝的DRC檢查

        支持附帶邊界重構的DXF數據格式導入導出

        支持Luceda Photonics公司的IPKISS.eda工具, 進行硅光器件設計

         SoftMEMS工具選項

        —高級3D分析工具:機械,熱,聲,電,靜電,磁性和流體分析

        —系統級仿真,包含ICMEMS協同仿真

        —根據3D分析結果,自動生成MEMS器件行為模型



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